弯道超车/长鑫推新一代记忆体 震撼业界
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长鑫存储的4F2进展,是全球技术分歧中颇受关注的中国变量。2026年10月,长鑫科技在第四届集成芯片和芯粒大会上正式宣布,自研4F2 架构取得关键突破,融合4F2架构与混合键合技术的新一代DDR5 RDIMM将于2026年底推出,正式切入服务器内存市场。
据悉,长鑫的4F2方案采用自研的VSG(Vertical Surrounded Gate,垂直包围栅)晶体管结构,通过垂直包围沟道设计强化栅极控制能力,解决漏电与短沟道效应问题,同时实现单元面积的大幅缩减。从技术积累来看,长鑫自成立起就启动了4F2研究和专利布局,目前公开相关专利族已超300件。配套工艺方面,长鑫第五代DRAM技术平台(G5平台)已于2026年9月正式量产,每片晶圆裸片数量较上一代提升50%以上,为4F2产品落地打下了工艺基础。
如果年底产品如期推出,这将是全球首款量产的4F2 DRAM产品,市场指这比记忆体巨企三星早两年推出。但需要客观看待的是,服务器级RDIMM对可靠性、兼容性要求极高,首代产品更多具备技术验证意义,大规模量产良率和市场接受度仍待观察。\半导体行业观察

